Plasma bestaande uit vloeibare microscopisch kleine tindruppels die geproduceerd zijn met behulp van een laser, genereert het extreem ultraviolet (EUV) licht dat gebruikt wordt in de modernste EUV-lithografie. Het gebruik van dit extreem korte EUV-licht met een golflengte van 13,5 nanometer maakt de voortzetting mogelijk van de miniaturisering van halfgeleiderapparatuur volgens de wet van Moore.
Optimale lasergolflengte
Met dit project willen de onderzoekers achterhalen wat de optimale lasergolflengte is om dit soort plasma aan te drijven, door de fundamentele grenzen te verkennen van de omzetting van 'drive' laserenergie naar bruikbaar EUV-licht. Hiervoor ontwikkelen ze een krachtige laser met een lage herhaalfrequentie die in het laboratorium in vaste toestand kan worden gebruikt en die flexibel is qua golflengte en spatiotemporele stralingsprofiel. Deze laser zorgt voor microscopische druppels tinplasma die EUV-licht produceren. Versolato licht toe: “Dankzij deze financiering kunnen we onderzoek doen naar het gebruik van vastestoflasers om licht te produceren aan de hand van plasma, oftewel, fundamenteel onderzoek dat direct toepasbaar is.”
Over het Open Technologieprogramma
Door middel van het OTP stelt het NWO-domein Toegepaste en Technische Wetenschappen (TTW) financiering beschikbaar voor excellent onderzoek, met het oog op mogelijke toepassing van de resultaten. Het programma geeft bedrijven en andere organisaties een laagdrempelige manier om aan te sluiten bij wetenschappelijk onderzoek dat moet leiden tot toepasbare kennis. Lees het NWO nieuwsbericht.