Onderwijs Onderzoek Actueel Over de VU EN
Bacheloropleidingen Masteropleidingen VU for Professionals
HOVO Amsterdam Taalcursussen Nederlands als tweede taal (NT2) Zomercursus van de VU Amsterdam Honoursprogramma Universitaire lerarenopleidingen
Promoveren aan de VU Uitgelicht onderzoek Prijzen en onderscheidingen
Interdisciplinaire onderzoeksinstituten Wetenschappers van de VU Research Impact Support Portal Creëer impact met jouw onderzoek
Nieuws Agenda Bewegen naar een vitale toekomst
VU UPDATE: Situatie in Israël en de Palestijnse gebieden Cultuur op de VU
Praktische informatie De VU en Innovatiedistrict Zuidas Missie, kernwaarden en visie
Besturing van de VU Valorisatie en impact Samenwerken met de VU VU Alumni Community Bekijk onze vacatures!
Sorry! The information you are looking for is only available in Dutch.
Deze opleiding is opgeslagen in Mijn Studiekeuze.
Er is iets fout gegaan bij het uitvoeren van het verzoek.
Er is iets fout gegaan bij het uitvoeren van het verzoek.

Promotie S.J.J. de Lange

Delen

Simulation of Tin Plasmas & Theory of Laser Light Absorption

In onze samenleving zijn computerchips hard nodig. De eerste stap van het maken van computerchips is het beschieten van plakjes siliconen met extreem ultraviolet (EUV) licht; dit heet (nano)lithografie. De wetenschap is daarom op zoek naar efficiëntere nanolithografie-technieken.

Via computersimulaties heb ik een nieuwe techniek van EUV-licht produceren onderzocht. Ik keek hierbij o.a. naar de hoeveelheid licht die daarbij geproduceerd wordt, maar ook naar de emissie van schadelijke ionen. Deze resultaten worden nu in het lab gecheckt.

Daarnaast heb ik theoretisch onderzoek gedaan naar absorbtie van laserlicht in een plasma. Plasma-elektronen in een lichtveld gedragen zich anders dan vaak vernomen wordt, en dit heeft invloed op de sterkte van lichtabsorptie. Door dit zorgvuldig door te rekenen heb ik een nieuwe formule afgeleid die lichtabsorptie beter beschrijft. Dit resultaat is niet alleen interessant voor (toekomstige) lithografietechnieken, maar ook voor kernfusie.

Mijn simulaties tonen aan dat EUV-productie door middel van een lange lichtpuls in principe meer energie kan opwekken dan de huidige techniek. Door meer EUV per druppel tin te produceren, kunnen computerchips nog sneller gemaakt worden. Hierbij worden echter ook meer hoogenergetische ionen geproduceerd, en deze kunnen op den duur de efficiëntie van de machine verminderen; hier moet in de praktijk rekening mee gehouden worden.

Mijn theoretisch onderzoek naar lichtabsorptie laat zien dat het gedrag van plasma-elektronen in een lichtveld vrij gemakkelijk kan worden meegenomen in berekeningen van lichtabsorptie. De invloed van het licht leidt tot een simpele verandering van één grootheid: het zogenaamde Coulomblogaritme. Al met al verwachten we: hoe sterker het licht, hoe minder absorptie er plaatsvindt.

Als deze nieuwe techniek in de praktijk ook nuttig blijkt, kan dit voor de chipindustrie een snellere manier van computerchips produceren betekenen. En snellere productie betekent groter aanbod en dus lagere prijzen.

Meer informatie over het proefschrift volgt.

Programma

Verdediging van de dissertatie door S.J.J. de Lange

Promotie Faculteit der Bètawetenschappen

Promotor:

  • prof.dr. O.O. Versolato

Copromotor:

  • dr. J. Sheil

De promotie is tevens online te volgen.

Over Promotie S.J.J. de Lange

Startdatum

  • 23 november 2026

Tijd

  • 13:45 - 15:15

Locatie

  • Hoofdgebouw VU, Auditorium

Adres

  • De Boelelaan 1105, 1081 HV Amsterdam

Georganiseerd door

  • Beadle's Office

Volg de plechtigheid online

Ga naar de livestream

Direct naar

Homepage VU Amsterdam Cultuur op de VU Universiteitsbibliotheek Dashboard

Studie

Academische jaarkalender Studiegids Rooster Canvas

Uitgelicht

Doneer aan het VUfonds VU Magazine Ad Valvas Digitale toegankelijkheid

Over de VU

Contact met VU Amsterdam Bekijk onze vacatures! Faculteiten VU Amsterdam Diensten VU Amsterdam
Privacy Disclaimer Veiligheid Webcolofon Cookie instellingen Webarchief

Copyright © VU