BEGIN:VCALENDAR
VERSION:2.0
PRODID:-//Vrije Universiteit Amsterdam//NONSGML v1.0//EN
NAME:Promotie S.J.J. de Lange
METHOD:PUBLISH
BEGIN:VEVENT
DTSTART:20261123T134500
DTEND:20261123T151500
DTSTAMP:20261123T134500
UID:promotie-s-j-j-de-lange@8F96275E-9F55-4B3F-A143-836282E12573
CREATED:20261021T195154
LOCATION:Hoofdgebouw VU, 1105, Auditorium, De Boelelaan, 1081 HV, Amsterdam
SUMMARY:Promotie S.J.J. de Lange
X-ALT-DESC;FMTTYPE=text/html: <html> <body> <p><p>Simulation of Tin Pl
 asmas &amp; Theory of Laser Light Absorption</p></p> <p>In onze samen
 leving zijn computerchips hard nodig. De eerste stap van het maken va
 n computerchips is het beschieten van plakjes siliconen met extreem u
 ltraviolet (EUV) licht; dit heet (nano)lithografie. De wetenschap is 
 daarom op zoek naar efficiëntere nanolithografie-technieken.<br><br>
 Via computersimulaties heb ik een nieuwe techniek van EUV-licht produ
 ceren onderzocht. Ik keek hierbij o.a. naar de hoeveelheid licht die 
 daarbij geproduceerd wordt, maar ook naar de emissie van schadelijke 
 ionen. Deze resultaten worden nu in het lab gecheckt.<br><br>Daarnaas
 t heb ik theoretisch onderzoek gedaan naar absorbtie van laserlicht i
 n een plasma. Plasma-elektronen in een lichtveld gedragen zich anders
  dan vaak vernomen wordt, en dit heeft invloed op de sterkte van lich
 tabsorptie. Door dit zorgvuldig door te rekenen heb ik een nieuwe for
 mule afgeleid die lichtabsorptie beter beschrijft. Dit resultaat is n
 iet alleen interessant voor (toekomstige) lithografietechnieken, maar
  ook voor kernfusie.</p><p>Mijn simulaties tonen aan dat EUV-producti
 e door middel van een lange lichtpuls in principe meer energie kan op
 wekken dan de huidige techniek. Door meer EUV per druppel tin te prod
 uceren, kunnen computerchips nog sneller gemaakt worden. Hierbij word
 en echter ook meer hoogenergetische ionen geproduceerd, en deze kunne
 n op den duur de efficiëntie van de machine verminderen; hier moet i
 n de praktijk rekening mee gehouden worden.<br><br>Mijn theoretisch o
 nderzoek naar lichtabsorptie laat zien dat het gedrag van plasma-elek
 tronen in een lichtveld vrij gemakkelijk kan worden meegenomen in ber
 ekeningen van lichtabsorptie. De invloed van het licht leidt tot een 
 simpele verandering van één grootheid: het zogenaamde Coulomblogari
 tme. Al met al verwachten we: hoe sterker het licht, hoe minder absor
 ptie er plaatsvindt.</p><p>Als deze nieuwe techniek in de praktijk oo
 k nuttig blijkt, kan dit voor de chipindustrie een snellere manier va
 n computerchips produceren betekenen. En snellere productie betekent 
 groter aanbod en dus lagere prijzen.</p><p>Meer informatie over het p
 roefschrift volgt.</p> </body> </html>
DESCRIPTION: Simulation of Tin Plasmas &amp; Theory of Laser Light Abs
 orption In onze samenleving zijn computerchips hard nodig. De eerste 
 stap van het maken van computerchips is het beschieten van plakjes si
 liconen met extreem ultraviolet (EUV) licht; dit heet (nano)lithograf
 ie. De wetenschap is daarom op zoek naar efficiëntere nanolithografi
 e-technieken.<br><br>Via computersimulaties heb ik een nieuwe technie
 k van EUV-licht produceren onderzocht. Ik keek hierbij o.a. naar de h
 oeveelheid licht die daarbij geproduceerd wordt, maar ook naar de emi
 ssie van schadelijke ionen. Deze resultaten worden nu in het lab gech
 eckt.<br><br>Daarnaast heb ik theoretisch onderzoek gedaan naar absor
 btie van laserlicht in een plasma. Plasma-elektronen in een lichtveld
  gedragen zich anders dan vaak vernomen wordt, en dit heeft invloed o
 p de sterkte van lichtabsorptie. Door dit zorgvuldig door te rekenen 
 heb ik een nieuwe formule afgeleid die lichtabsorptie beter beschrijf
 t. Dit resultaat is niet alleen interessant voor (toekomstige) lithog
 rafietechnieken, maar ook voor kernfusie.Mijn simulaties tonen aan da
 t EUV-productie door middel van een lange lichtpuls in principe meer 
 energie kan opwekken dan de huidige techniek. Door meer EUV per drupp
 el tin te produceren, kunnen computerchips nog sneller gemaakt worden
 . Hierbij worden echter ook meer hoogenergetische ionen geproduceerd,
  en deze kunnen op den duur de efficiëntie van de machine vermindere
 n; hier moet in de praktijk rekening mee gehouden worden.<br><br>Mijn
  theoretisch onderzoek naar lichtabsorptie laat zien dat het gedrag v
 an plasma-elektronen in een lichtveld vrij gemakkelijk kan worden mee
 genomen in berekeningen van lichtabsorptie. De invloed van het licht 
 leidt tot een simpele verandering van één grootheid: het zogenaamde
  Coulomblogaritme. Al met al verwachten we: hoe sterker het licht, ho
 e minder absorptie er plaatsvindt.Als deze nieuwe techniek in de prak
 tijk ook nuttig blijkt, kan dit voor de chipindustrie een snellere ma
 nier van computerchips produceren betekenen. En snellere productie be
 tekent groter aanbod en dus lagere prijzen.Meer informatie over het p
 roefschrift volgt.
END:VEVENT
END:VCALENDAR
