Prof. dr. Marcelo Ackermann is benoemd tot hoogleraar Nanolitografie aan de Vrije Universiteit Amsterdam. Het gezamenlijke hoogleraarschap, dat wordt gedeeld met de Universiteit van Amsterdam (UvA), versterkt de samenwerking tussen de twee universiteiten en het Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL).
Ackermann is directeur van ARCNL en blijft tevens hoogleraar aan de Universiteit Twente, waar hij eerder leiding gaf aan de XUV Optics Industrial Focus Group binnen het MESA+ Instituut. Zijn benoeming brengt de onderzoeksgemeenschappen in Amsterdam en Enschede met elkaar in contact en onderstreept het belang van geavanceerde lithografie voor zowel de wetenschap als het bedrijfsleven in Nederland.
Lithografie is de technologie die wordt gebruikt om de steeds kleinere en complexere structuren op computerchips te produceren. Deze technologie is essentieel voor de digitale apparaten die ons dagelijks leven bepalen, van smartphones en medische apparatuur tot datacentra en kunstmatige-intelligentiesystemen. Nederland speelt op dit gebied een leidende rol, met ASML als spil in een breed netwerk van bedrijven en onderzoeksinstellingen. Om deze positie te behouden is fundamenteel onderzoek nodig naar de fysica en techniek achter de chipproductie van de volgende generatie. Als directeur van ARCNL werkt Ackermann op dit raakvlak tussen fundamentele wetenschap en industriële toepassing.
ARCNL is opgericht door de UvA, de VU Amsterdam, NWO en ASML. De nieuwe functie van Ackermann versterkt de banden tussen ARCNL en zijn academische partners nog verder. Ook draagt deze functie bij aan een nauwere samenwerking tussen onderzoekers die zich in Nederland en internationaal bezighouden met onderwerpen op het gebied van nanolithografie. Dit najaar zal Ackermann een gezamenlijke inaugurele lezing houden ter gelegenheid van zijn benoemingen aan de VU Amsterdam en de UvA.