Den Boef is hoogleraar Metrologie en Nanolithografie en expert in de metrologie- en uitlijningsprocessen die een erg belangrijke rol spelen in de ambitie om computerchiptechnologie te optimaliseren. Bij ARCNL onderzoeken den Boef en zijn team computationele beeldvormingstechnieken om de optische metrologie te verbeteren zonder dure en hoogwaardige optica te gebruiken. Bij deze benadering produceert de optische sensor imperfecte beelden en worden slimme algoritmen gebruikt om de beeldimperfecties te corrigeren.
Credits afbeelding: ACRNL