Onderwijs Onderzoek Actueel Over de VU EN
Bacheloropleidingen Masteropleidingen VU for Professionals
HOVO Amsterdam Taalcursussen Nederlands als tweede taal (NT2) VU Amsterdam Summerschool Honoursprogramma Universitaire lerarenopleidingen
Promoveren aan de VU Uitgelicht onderzoek Prijzen en onderscheidingen
Interdisciplinaire onderzoeksinstituten Wetenschappers van de VU Research Impact Support Portal Creëer impact met jouw onderzoek
Nieuws Agenda Bewegen naar een vitale toekomst
VU UPDATE: Situatie in Israël en de Palestijnse gebieden Cultuur op de VU
Praktische informatie De VU en Innovatiedistrict Zuidas Missie, kernwaarden en visie
Besturing van de VU Valorisatie en impact Samenwerken met de VU VU Alumni Community Bekijk onze vacatures!
Sorry! The information you are looking for is only available in Dutch.
Deze opleiding is opgeslagen in Mijn Studiekeuze.
Er is iets fout gegaan bij het uitvoeren van het verzoek.
Er is iets fout gegaan bij het uitvoeren van het verzoek.

John Sheil ontwikkelt met Veni simulatiecapaciteit lichtbronnen voor lithografie

Delen
03 augustus 2023

VU-natuurkundige John Sheil ontvangt een Veni-beurs van NWO voor zijn onderzoeksproject ‘ARIES’. Sheil zal laser-plasma simulatiecapaciteit ontwikkelen om het ontwerp van krachtigere en duurzamere EUV-bronnen (extreem-ultravioletlithografie) voor nanolithografie van de toekomst te begeleiden. Het onderzoek draagt bij aan de chipproductietechnologie van de toekomst.

John Sheil, groepsleider bij Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL), zal recente ontwikkelingen in onderzoek naar inertial confinement fusion (ICF) gebruiken. Sheil gaat recente ontwikkelingen voor het simuleren van ICF gebruiken om de meest nauwkeurige en uitgebreide beschrijving van tin-plasma op te bouwen. Sheil werkt samen met medewerkers van Los Alamos National Laboratory en Lawrence Livermore National Laboratory. Deze gegevens zullen dan dienen als input voor het tweede deel van ARIES, waarin hij grootschalige stralings-hydrodynamische modellering zal uitvoeren van nieuwe EUV-bron-plasmaconcepten die worden verhit door vaste stof lasers bij een golflengte van 2-micron. Deze simulaties zijn cruciaal om de omstandigheden te vinden die ongekende vermogens in de EUV-bronmogelijk maken.

"In de derde fase van ARIES," zegt Sheil, "zal ik experimenten bij ARCNL leiden om de door simulaties voorgestelde omstandigheden te testen en te verfijnen. Deze gezamenlijke simulatie-experimentele aanpak is uniek en maakt snelle tests en ontwikkeling van nieuwe EUV-bronconcepten voor toekomstige industrialisatie mogelijk."

Veni
De Nederlandse Organisatie voor Wetenschappelijk Onderzoek (NWO) heeft aan John Sheil een Veni-financiering toegekend. Hij kan hiermee in de komende drie jaar zijn eigen onderzoek naar duurzamere EUV-bronnen voor nanolithografie verder ontwikkelen.
Het NWO-Talentprogramma geeft onderzoekers de vrijheid om vanuit creativiteit en passie eigen onderzoek te doen. Zij ontvangen maximaal 280.000 euro. Het programma stimuleert vernieuwing en nieuwsgierigheid. Vrij onderzoek draagt bij aan en bereid ons voor op de maatschappij van morgen. Daarom zet NWO in op een diversiteit aan wetenschappers, domeinen en achtergronden. Veni maakt samen met de Vidi- en Vici-beurzen deel uit van het Talentprogramma.

NWO selecteert onderzoekers op basis van de wetenschappelijke kwaliteit en het innovatieve karakter van het onderzoeksvoorstel, de wetenschappelijke en/of maatschappelijke impact van het voorgestelde project en de kwaliteit van de onderzoeker.

Direct naar

Homepage VU Amsterdam Cultuur op de VU Universiteitsbibliotheek Dashboard

Studie

Academische jaarkalender Studiegids Rooster Canvas

Uitgelicht

Doneer aan het VUfonds VU Magazine Ad Valvas Digitale toegankelijkheid

Over de VU

Contact met VU Amsterdam Bekijk onze vacatures! Faculteiten VU Amsterdam Diensten VU Amsterdam
Privacy Disclaimer Veiligheid Webcolofon Cookie instellingen Webarchief

Copyright © VU