Methoden en toepassingen van extreme ultraviolette multigolflengte ptychografie in nanoschaalbeeldvorming
Natuurkundige Fengling Zhang onderzocht de ontwikkeling van multi-golflengte extreme ultraviolet (EUV) ptychografie voor hoge-resolutie, lensloze beeldvorming op nanoschaal.
Een tafelmodel hoog-harmonische generatie (HHG) bron wordt geïmplementeerd om coherente en spectraal instelbare EUV-belichting te bieden. Het werk verbetert ptychografische reconstructietechnieken door gestructureerde en multi-golflengte belichting te introduceren om de robuustheid van fase-retrieval en ruimtelijke resolutie te verbeteren. Materiaalgevoelige en dikte-opgeloste beeldvorming wordt gedemonstreerd door middel van spectraal opgeloste metingen, wat kwantitatieve analyse van nanostructuren mogelijk maakt.
Bovendien wordt Fourier-transformatie spectroscopische holografie ontwikkeld om snelle, golflengte-opgeloste beeldvorming te verkrijgen, wat de benadering richting spectroscopische microscopie uitbreidt. Samen maken deze ontwikkelingen EUV multi-golflengte ptychografie tot een veelzijdige tool voor niet-destructieve, kwantitatieve nanoschaal metrologie. De resultaten dragen bij aan de ontwikkeling van compacte, laboratoriumschaal beeldvormingssystemen met potentiële toepassingen in halfgeleiderinspectie, materiaalkarakterisering en nanowetenschap.
Meer informatie over het proefschrift